Er、Mn、Co共掺杂BiFeO3薄膜的制备及多铁性能研究
[关键词:薄膜制备,多铁性能] [热度 ]提示:此毕业设计论文完整版包含【论文】 作品编号:clkx0010,word全文:43页,合计:22000字 |
本论文的研究目的和意义
BiFeO3薄膜是一种研究意义极高的多铁材料,其高的居里点、大的剩余极化值、优越的电性能以及铁电铁磁的共存耦合使得其具有广阔的应用前景。BiFeO3 薄膜要真正应用于微电子器件,必须同时具有较强的铁电性、铁磁性和磁电效应,矫顽场和厚度应足够小,纯的 BiFeO3 薄膜显然不能满足要求。因此需要我们从各个方面进行研究优化其铁电铁磁性能。
对于制备工艺而言改革的进度是缓慢的,它要关系到许多行业的改革创新。而另一种比较实用且快速研究改性BiFeO3薄膜的方法就是掺杂。掺杂不仅可以降低漏电流密度,还能提高剩余极化强度。而对于前文中对相关研究成果的分析可知,通过掺杂或者替代可以提 BiFeO3的铁电性、铁磁性以及磁电耦合效应,基于以上La或者Mn的单个离子对BiFeO3的A位或者B位的掺杂的研究报道,可知La或者Mn的掺杂对BiFeO3的铁电、铁磁性质影响很大,然而,实验上有关A位、B位进行共掺杂对BiFeO3陶瓷样品的铁电特性、铁磁特性和磁电耦合效应影响的报道相对较少。因此,本次实验采用A、B位共掺杂对BiFeO3薄膜进行研究。
从目前研究来看,对 BiFeO3材料 A 位进行掺杂的稀土元素主要有 La、Ce,Pr、Nd、Sm、Dy、Eu、Gd、Ho、Er等。之所以 A 位选择稀土元素作为 Bi 的取代元素,前文已有说明。B位进行掺杂的过渡金属主要有Ti、Zr、Cr、Mn、Co等。
选择上述过渡金属对B位进行掺杂的原因主要有:非磁性的Ti4+、Zr4+等高价态阳离子对 Fe3+的取代,可减少氧空位,从而改变 Fe2+离子的浓度,能有效降低漏电流,增大电阻,得到饱和的电滞回线;其次是 Cr、Mn、Co 等磁性过渡金属的离子掺杂,通过对B位Fe3+离子的替代可以强烈地影响其晶粒内部的磁结构,进而影响其磁性及磁电效应,掺杂样品的磁性都得到了明显增强.。
由于Er离子半径较小与Bi离子差别大,在进入晶格后造成的较大的化学内应力,从而产生较大的晶格畸变或者出现结构转变,能有效的提高BiFeO3磁电性能。同时在前面的报道中发现Mn、Co离子掺杂能够有效的减小薄膜的漏导电流,同时大幅增强其磁电特性。因此,在本实验中A位选择Er元素掺杂,B位采用Mn、Co掺杂。
本论文的研究内容
(1)探索溶胶-凝胶法制备Er掺杂BiFeO3薄膜,并研究不同掺杂量对BiFeO3薄膜结构、微观形貌、铁电性、介电性以及漏导电流的影响。
(2)在确定A位Er掺杂量的基础上,对BiFeO3薄膜进行B位的Co掺杂,并研究共掺对BiFeO3薄膜结构、表面形貌、介电性能、铁电性及漏电流的影响。
(3)在确定Er、Co共掺量后,再对薄膜进行B位的Mn掺杂以及Co、Mn定量的A位Er掺杂,并对其结构、微观形貌、铁电性、介电性以及漏导电流进行研究,得出最佳的Er、Mn、Co共掺量。
本实验采用溶胶-凝胶法在FTO/glass基底上制备了Bi1-xErxFeO3薄膜、Bi0.9Er0.1Fe1-xCoxO3薄膜、Bi0.9Er0.1Fe0.98-xCo0.02MnxO3薄膜和Bi1-xErxFe0.96Co0.02Mn0.02O3薄膜,薄膜的退火温度为550℃。通过使用X射线衍射仪,扫描电子显微镜,阻抗分析仪,电滞回线测试仪,漏电流测试仪等研究了BiFeO3薄膜物相、微观形貌、介电性、铁电性以及漏电流。得出以下结论:
(1) 在Er单掺的Bi1-xErxFeO3薄膜系列中,Er掺杂量为10%时,薄膜具有最优铁电性能(电滞回线矩形度最好)。当Er掺杂量大于10%时,薄膜中有少量杂相出现,可能是由于Er的掺入使薄膜发生了晶体结构畸变;掺杂量为10%时,薄膜电滞回线饱和度增加,介电损耗最小,而漏电流密度也在电场场强大于200kV/cm时,x=0.10的薄膜漏导电流最小,这与Er的掺杂可减少Bi的挥发,减少氧空位有关。
(2) Bi0.9Er0.1Fe1-xCoxO3薄膜中当共掺10%Er,2% Co时,薄膜的铁电性能最好,727kV/cm的电场下,剩余极化值Pr为97.04μC/cm2,矫顽场Ec为404kV/cm。在Co掺量2%时,薄膜主衍射峰位向左偏移,薄膜内部产生应力,晶体结构发生畸变。Co掺杂2%的薄膜Bi0.9Er0.1Fe0.98Co0.02O3薄膜的晶粒均匀且致密,有利于畴的反转。Bi0.9Er0.1Fe1-xCoxO3薄膜的介电常数也在掺杂量为2%时最大。
(3) 在Er、Mn、Co共掺杂BiFeO3薄膜中,在掺杂量为Er10%、Mn2%、Co2%时,薄膜表现出优异的铁电性性能(Pr~95.35μC/cm2)。在Co、Mn定量,Er掺杂改变时,薄膜的主衍射峰随着掺杂量的增加向右偏移,这可能是由于Er3+较小的离子尺寸,在Er3+进入晶格,替代部分Bi3+后,由尺寸效应使晶格参数发生变化,峰位发生偏移。在Er为10%时,薄膜的晶粒尺寸较大,晶界少,有利于畴的反转,使铁电性能提高。在Mn变时,薄膜的主衍射峰随着掺杂量的增加向左偏移,薄膜的结构畸变加剧,此畸变有利于极化的增强。随着Mn的掺杂,薄膜的致密度上升。Mn的掺杂有利于抑制氧空位的形成,随着Mn的掺入薄膜的漏电流密度减小近一个数量级。从而使薄膜的铁电性得到提高。
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