本文是为制作许多光电仪器的关键部位二向色镜等器件而设计的，它要求K9基底，400—510nm高透，平均透过率大于98%；600—640nm截止，平均透过率小于1%。

具体的工作可概括如下：

首先根据薄膜光学理论进行理论分析，为膜系设计打下基础；其次，根据设计要求，结合膜料的性质选定基底玻璃材料及镀膜材料，借助计算机进行膜系仿真，进行膜系设计；随后进行薄膜的真空镀制，膜片的光谱性能测试；最后进行膜片的误差分析。这一光学镀膜工艺技术问题的解决，将使滤光片的分光效果更好，从而使电影、电视的色彩、图像效果更好，医疗仪器的诊断准确率更高。

误差分析

从测试光谱曲线中可以看出，实际曲线与理论设计的曲线有一些差异，这是因为在薄膜的镀制过程中，存在一些工艺因素的影响，具体介绍如下:

(1)光谱特性

空气中的潮气对薄膜的折射率有着很大的影响。潮气吸附前，空隙的折射率为1.0，但是吸附之后，空隙被折射率为1.33的水分子充填，这时薄膜的光学厚度和光谱特性均引起变化。

(2)膜层装置监控误差

石英晶体监控法的缺点是晶体的灵敏度会因为所镀制的膜层的质量的增加而减弱；所以这影响到了膜层的性能。

(3)基板温度及洁净度

基片的清洁度会影响蒸发原子的表面迁移，所以基片清洁度适当可使初始晶

粒的数量增多，膜层更为紧密，不会影响到透过率和膜层的质量。实验中所使基片清洁度为1级，理论上不会对镀制的结果产生太大的影响，但在实际生产过程中清洁度的影响是无法避免的。

基片温度对结果也会有很大的影响。这是因为基片的温度会引起结晶颗粒大

小的变化，甚至会改变晶体结构，所以在镀制前必须对基底进行烘烤。另外加热基片还可以减小再结晶温度和成膜之差降低内应力。

在薄膜的设计和制备过程中，总结出以下几点：

 (1)温度对于薄膜的制备来说影响很大，在镀膜前要先烘烤，保证基片均匀受热，防止由于温度的变化造成折射率，散射等方面的误差; 

 (2)石英晶体监控法没有良好的重复性。晶体的灵敏度随着膜层质量的增加而降低，在镀制多层膜时，可以尝试使用光控和晶控结合来控制膜层厚度的监控方法。

通过论文的理论分析，对专业知识的综合运用以及对镀膜设备的学习操作，现已成功设计并完成了对该滤光片的镀制工作。经测定，在波长范围400nm到510nm波段平均透射率能够达到98%以上，600nm到640nm波段平均透射率小于1%，满足彩色分光系统中二向色镜元件的设计要求。但是最终测试曲线与理想的设计曲线还有一定差距。改进监控方法，减少误差是今后研究和改进的方向。