本文中，我们分析了eclipse和GEF框架，研究其整合的方式，并以一个具体的XPDL(XML Process Definition Language)工作流设计器为例，探讨如何利用它们给出一套使用了MVC模式的易维护、可重用、弹性强、可扩展的图形编辑器的通用方案。同时，我们也讨论一些设计的好方法，这些方法可以帮助我们在日后的软件维护中省去一些麻烦。

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由于XPDL设计器是面向开发人员的，这也就意味着三件事情。一是对该设计器是运行在C/S还是B/S之下没有限制。二是并没有很高的性能和并发要求。而对于并发性，代码管理工具就足以满足要求，不必再额外设计。三是该设计器的生成文件是经常与程序代码放在一起的。

基于这样的需求和项目当时的背景，该设计器采用eclipse插件的形式。这是因为，eclipse的基础架构已经提供了诸如文件管理、版本控制、GUI环境等服务，我们可以更加专注于考虑设计器要考虑的问题。值得一提的是，由于eclipse自带Java开发工具，可以将生成的XPDL文件与新平台项目其他代码放在一起。这使得作为设计器使用人员的新平台开发人员更易于与其他代码相对照。GEF框架是一套图形框架，它为实现一个作为eclipse插件的图形编辑器提供了一定的支持，也同时提供了一些现成的类库。因此，使用该框架可以使得设计器编写变得相对容易一些。

本文研究的主要内容

本文以一个XPDL设计器为例，主要研究如何应用已有模式，利用现有的多个开源框架设计并实现一个作为eclipse插件，基于GEF框架的XML图形编辑器，并使得该设计器具有较高的易维护性、可重用性和可扩展性。

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结论1.优秀框架可以减少开发成本

2.框架需要适当改造以适应实际模型

3.这样的实现方式易维护、可重用和可扩展